氧化锡靶材
化学式:SnO2
纯度:4N
熔点:1630℃
沸点:1800℃
理论密度:6.95g/cm³
尺寸:根据客户需求定制
产品技术优势
高纯度:
5N级别原料,粉体微反应器共沉淀法制备,粉体纯度保证在5N以上.
成型无钢制模具等金属接触,产品纯度有效保证在99.995%以上;
大尺寸:
已生产国内最长1550mm靶材,并可继续放大至1800mm以上,优化减少高世代线的拼接缝隙;
可制备OLED世代线用超宽加厚靶材,打破日韩在OLED产线大尺寸靶材的垄断。 晶粒均一,性能稳定:
粉体颗粒均匀,微反应器共沉淀法氧化锡完全固溶;树脂注浆低压成型,无应力,无孔洞缺陷,靶材晶粒组织均一,磁控溅射过程更为稳定;
